Rapid Thermal Annealing Furnace
Rapid Thermal Annealing Furnace
Rapid Thermal Annealing Furnace
FOB
MOQ:
1
Доставка:
陆运, 海运
Количество (штук):
1
Детали продукта
Необходимые детали
Количество (штук):1
MOQ:1
Время выполнения заказа:3~6 months
Доставка:陆运, 海运
Введение в продукт
Overview:
1. Process application: RTP RTO RTA RTN  RTN
2. Wafer size: 8 inches and below
3. Applicable substrate material: Silicon, silicon carbide, gallium nitride, gallium arsenide, sapphire, quartz glass
4. Temperature range: 200~1300°C