Rapid Thermal Annealing Furnace
Rapid Thermal Annealing Furnace
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제품 세부정보
필수 정보
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납기일:3~6 months
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제품 소개
Overview:
1. Process application: RTP RTO RTA RTN  RTN
2. Wafer size: 8 inches and below
3. Applicable substrate material: Silicon, silicon carbide, gallium nitride, gallium arsenide, sapphire, quartz glass
4. Temperature range: 200~1300°C