Wesentliche Details
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MOQ:1
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Produkteinführung
Übersicht:
DieserAluminiumoxidSlurry ist so konzipiert, dass es die Spezifikationsanforderungen für die Politur von Siliziumkarbid- und Saphirsubstratproduktionen erfüllt. Es ist speziell für Batch- und Einzelwafer-CMP-Systeme formuliert. Die fortschrittliche Zusammensetzung bietet ultra-hohe Abtragsraten und gleichzeitig eine außergewöhnliche Oberflächenplanarität, null Unterflächenbeschädigung und geringe Defekte bei minimalen Kratzern.