Rapid Thermal Annealing Furnace
Rapid Thermal Annealing Furnace
Rapid Thermal Annealing Furnace
FOB
الحد الأدنى للكمية المطلوبة:
1
طريقة الشحن:
陆运, 海运
العدد (قطعة):
1
تفاصيل المنتج
تفاصيل أساسية
العدد (قطعة):1
الحد الأدنى للكمية المطلوبة:1
وقت التسليم:3~6 months
طريقة الشحن:陆运, 海运
وصف المنتج
Overview:
1. Process application: RTP RTO RTA RTN  RTN
2. Wafer size: 8 inches and below
3. Applicable substrate material: Silicon, silicon carbide, gallium nitride, gallium arsenide, sapphire, quartz glass
4. Temperature range: 200~1300°C